2015年9月23日 星期三

巴斯夫桃園新廠 月底投產

作者記者彭暄貽╱台北報導 | 中時電子報 – 2011年9月28日 上午5:30
新聞及圖片出處:https://tw.news.yahoo.com/%E5%B7%B4%E6%96%AF%E5%A4%AB%E6%A1%83%E5%9C%92%E6%96%B0%E5%BB%A0-%E6%9C%88%E5%BA%95%E6%8A%95%E7%94%A2-213000040.html

工商時報【記者彭暄貽╱台北報導】
德國化工翹楚巴斯夫(BASF)旗下台灣巴斯夫昨(27)日宣布,專為製造巴斯夫研磨液產品而設立的化學機械研磨(CMP)新廠,已正式於桃園觀音啟用投產,該廠可為先進半導體製程提供創新的CMP barrier及STI的研磨液,並將整合巴斯夫既有的龍潭廠產能,全力開拓CMP業務。
據研究機構推估,今年全球CMP市場產值規模約6~8億美元。巴斯夫台灣觀音廠主要為電子材料發展重鎮,包括先進材料與基礎材料2大區塊,而其中隸屬先進材料的台灣化學機械研磨(CMP)更是巴斯夫集團全球的唯一布局中心。
巴斯夫表示,此新廠專為製造巴斯夫研磨液產品而設立,於9月底正式投產,為先進半導體製程提供創新的CMP barrier及STI的研磨液。後續將進一步整合現有龍潭廠的產能,藉此拉抬先進材料在電子材料的收益貢獻能量。
巴斯夫深耕半導體市場已長達25年。2006年切入CMP領域後,隔年便在台灣投資設立應用實驗工廠,其後又建置龍潭廠區。巴斯夫目前在桃園觀音已有一座電子材料生產基地,並設有負責發展先進CMP產品的應用實驗室,可和客戶緊密合作。
巴斯夫電子材料CMP事業部總監王靜亞表示,隨著先進半導體技術的進步以及製程線寬的縮小,CMP被視為先進IC製造的關鍵技術,CMP新廠與CMP應用實驗室將為半導體客戶提供更優質的服務。